中文技術實力
Production equipment
SMD——2009年研發(fa)並(bing)成(cheng)功批量生產(chan)
紅(hong)外截止濾光片——2016年研(yan)發成功(gong)並批量(liang)生產
微(wei)晶(jing)玻(bo)璃(li)手機麵(mian)板(ban)——2018年(nian)研發成功並批量生(sheng)產
晶圓(yuan)、矽(xi)片等(deng)產品——2020年研發成功並批(pi)量生產
成功實現自(zi)動化拋(pao)光機、自動(dong)化(hua)精雕(diao)機等設(she)備自動化改(gai)造並申請(qing)國家專利。
| 外徑尺寸 | 1.6mm×1.1mm、5mm×2.5mm |
| 頻率公差 | 150kHZ |
| 最小厚度 | 0.022mm |
| 頻率 | 212.5M——48M |
| 基頻 | 74.45M——16M |
| * 備注： | 可以根據客戶需求定製 |
加工設備 | 檢驗設備 | ||
 |  |  |  |
| 外徑尺寸 | 77mm×77mm |
| 外徑公差 | ±0.05mm |
| 厚度尺寸 | 0.11mm、0.21mm、0.3mm |
| 外觀質量 | 20/10 |
| 最小厚度 | 0.08mm |
| TTV | <3μm |
| * 備注： | 可以根據客戶需求定製 |
加工設備 | 檢驗設備 | ||
 |  |  |  |
| 外徑尺寸 | 20——300mm |
| 外徑公差 | ±0.05mm |
| 厚度尺寸 | 0.3mm——0.5mm |
| TTV | <3μm |
| 單片平行度 | ≤0.02 |
| 外觀質量 | 20/10 |
| 粗糙度 | Ra<5nm |
| * 備注： | 可以根據客戶需求定製 |
加工設備 | 檢驗設備 | ||
 |  |  |  |
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